集成纳米系统研究设施

设备

为了维护对工具的授权和访问,用户必须至少每6个月使用一次工具。用户可以提交新的培训请求,以获得重新培训和重新授权,以重新访问该工具。

设备 位置 类别
AB&M公司的紫外线洪水曝光系统 ABM紫外线照射系统 AB&M。INC UV泛滥曝光系统 生物型,1431 光刻技术
ADT 7910 uno切割锯 ADT 7910 uno切割锯 INRF - 包装
Anatech公司的SP100型等离子体系统 Anatech公司的SP100型等离子体系统 生物型- 1402 Plasma-Asher
4英寸的退火管 退火管(4) INRF -W2345 扩散炉
Anicon LTO化学汽相淀积 icon-view-notebook Anicon LTO化学汽相淀积 INRF -W2326 化学汽相淀积系统
阳极焊炉高达4英寸 阳极焊炉高达4英寸 INRF -W2326 扩散炉
ASM LPCVD低应力氮化,聚 ASM LPCVD INRF -W2326 化学汽相淀积系统
原子层沉积(ALD) 原子层沉积(ALD) icon-view-notebook 原子层沉积(ALD) INRF -W2339 沉积
4英寸硼管 硼管(4) INRF -W2345 扩散炉
BMR低温PECVD icon-view-notebook BMR低温PECVD INRF -W2333 / W2335 化学汽相淀积系统
佳能i4 4000步进 佳能i4 4000步进 INRF -W2344 光刻技术
CHA Mark 50蒸发 CHA Mark 50蒸发 icon-view-notebook CHA Mark 50蒸发 INRF -W2351 沉积
CHA热蒸发(SEC-600-RAP) icon-view-notebook CHA热蒸发(SEC-600-RAP)(手动工具) INRF -W2333 / W2335 沉积
辛辛那提零下环境室 辛辛那提零下环境室 INRF——W2320 包装
II类生物危害安全帽 II类生物危害安全帽 生物型- 1421 后端处理
CO2水套培养箱系列II CO2水套培养箱系列II 生物型- 1421 后端处理
Dektak 3表面光度仪 Dektak 3表面光度仪 INRF -W2315A,
生物型- 1402
描述
Dektak XT表面光度仪 Dektak XT表面光度仪 INRF -W2315A 描述
数字组合压花机 数字组合压花机 生物型,1431 热压花
6英寸干湿氧化管 干湿氧化管(6") INRF -W2345 扩散炉
4英寸干氧化管 干氧化管(4") INRF -W2345 扩散炉
电子束蒸发(Temescal SR-10)(手动工具) 生物型- 1222 沉积
电子束1蒸发(Temescal CV-8) 电子束1蒸发(Temescal CV-8) icon-view-notebook 电子束1蒸发(Temescal CV-8)(手动工具) INRF -W2339 沉积
电子束2蒸发(Temescal CV-14) 电子束2蒸发(Temescal CV-14)(手动工具) INRF 沉积
FEI SEM /电子束作家 FEI SEM /电子束作家 INRF -W2321 光刻技术
Filmetrics F40 Filmetrics F40 Nanospec INRF -W2315A 描述
第一台纳米炉(EasyTube 3000系统) CHA Mark 50蒸发 icon-view-notebook 第一台纳米炉(EasyTube 3000系统) INRF -W2351 化学汽相淀积系统
加特纳椭圆计 加特纳椭圆计 INRF -W2326 描述
Gasonics下游等离子体灰化 Gasonics下游等离子体灰化 INRF -W2338 Plasma-Asher
Harrick等离子体清洁 Harrick等离子体清洁 生物型,1431 Plasma-Asher
Heatpulse 610等 Heatpulse 610等 INRF -W2345 扩散炉