集成纳米系统研究设施

spt APS点

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SPTS的APS工艺模块是一种基于ICP的高密度等离子体源,用于蚀刻传统RIE或ICP源难以蚀刻的材料。

工艺室为金属结构,通过加热来减少沉积水平,从而提高工艺稳定性,并将平均清洗时间增加10倍以上。通过永磁体的使用,等离子体被限制,有助于增加等离子体密度,这是成功刻蚀强结合材料所必需的。

材料包括:
SiO2, SixNy, SiC, Al2O3